II-VI INFRARED:走査レーザーシステム光学部品

スキャニング・レーザーシステム光学部品

スキャニング・レーザーシステム光学部品

Fシータ操作レンズは、今日の最先端のレーザー・アプリケーションで重要な役割を演じています。II-VIは、マーキング、型堀、バイアホールドリルなどに使用される炭酸ガスレーザーシステム用の操作レンズを製造しています。

通常の操作レンズ構成では、Fシータレンズは、レーザービームの迅速なポジショニングと精密収束を可能にする、1軸または 2軸のガルバノミラーで使用されます。

標準集光レンズは、1点のみに焦点を提供しますが、スキャンレンズは、スキャンフィールドまたは被加工品の多数の点に焦点を提供します。設計と使用には、特に考慮が必要です。

スキャンレンズのアプリケーションには、以下があります。

  • マーキング
  • 型彫り
  • 急速な試作
  • サーキットボードの穴あけ
  • 布の裁断
  • 紙の裁断

当社のII-VI スキャンレンズには、次の特色があります。

  • 世界最高の光学材料
  • パフォーマンスを最適化する特殊ハウジング設計
  • 9.2 - 10.6 µmの波長オプション
  • 75-300µmのバイアホールドリル径
  • 1-5個の光学素子を特色とする設計
  • オプションで保護ウィンドウ
  • 低損失ARコーティング
  • 精密光学素子

II-VIセールス担当に連絡していただければ、貴社のスキャンレーザー光学部品のニーズについて話し合う機会をもたせていただきます。

スキャニング・レーザー・システム・コンポーネント用語集

Xガルバノ

Xミラーを配置するモーター

Yガルバノ

Yミラーを配置するモーター

Xミラー

ビームパスの最初のミラー

Yミラー

ビームパスの2番目のミラー

X-Yガルバノミラー分離

2個のミラーの中心間の距離通常、ガルバノ製造メーカーが設定

F-シータレンズ

レーザービームの精密収束を被加工物に提供する一重、二重または三重レンズアセンブリ

レンズ分離に対するYミラー

Yミラー(ビームパスの2番目のミラー)との中心部とレンズハウジングの上端部間の距離。ユーザーが指定

ワーキングディスタンス

レンズハウジングの端から被加工品までの距離

スキャンフィールド

ガルバノとスキャンレンズシステムにより処理されるエリア。通常は四角いが、円形または長方形もあり得る


一重スキャンレンズ(マーキング)

当社の単一素子スキャンレンズは、広い角と長い焦点距離に対して最適化され、大型のスキャンフィールドが必要なアプリケーションに適しています。

一重レンズは、非マウントまたはマウントで出荷され、カスタムマウントは、要求があり次第提供可能です。詳細につきましては、II-VIセールス担当者にお問い合わせください。

パーツ番号

材料

レンズ CA
(mm)

スキャン
フィールド
(mm)

焦点
(mm)

レンズ直径
(mm)

ワーキングディスタンス*
(mm)

SL1-10.6-25-88-127-U

ZnSe

25

88

127

28

134

SL1-10.6-25-60-89.5-U

ZnSe

25

60

89.5

28

96

SL1-10.6-36-40-100-U

ZnSe

36

40

100

40

103

SL1-10.6-36-70-100-U

ZnSe

36

70

100

40

106

SL1-10.6-43-40-55-U

ZnSe

43

40

55

48

59

SL1-10.6-43-70-105-U

ZnSe

43

70

105

48

110

SL1-10.6-43-100-150-U

ZnSe

43

100

150

48

159

SL1-10.6-43-140-200-U

ZnSe

43

140

200

48

209

SL1-10.6-43-250-360-U-A

ZnSe

43

250

360

48

379

SL1-10.6-57-120-175-U

ZnSe

57

120

175

64

187

SL1-10.6-57-110-208-U-A

ZnSe

57

110

208

64

217

SL1-10.6-64-140-200

ZnSe

64

140

200

68

215

SL1-10.6-74-140-200-U

ZnSe

74

140

200

75

211

SL1-10.6-40-80-100-U-A

Ge

40

80

100

43

106

SL1-10.6-40-120-200-U-A

Ge

40

120

200

43

217

*スキャンレンズのワーキングディスタンスは、入射ビームパラメータとガルバノシステムに特有です。上記に記載されている各モデルは、要求があり次第詳細な仕様書シートが利用可能です。詳細につきましては、II-VIセールス担当者にお問い合わせください。


二重スキャンレンズ(マーキング/穴あけ)

複数素子レンズは、大半の難しいアプリケーションに利用可能です。こうしたレンズには、2-5個の素子が含まれ、必要な焦点距離とスキャンフィールドにより異なります。さらに、最低スポットの歪みが必要な場合、テレセントリックである可能性があります。

当社の精密ダイヤモンド切削機能で加工された非球面設計により、性能がさらに改善され、収差が最小化されます。

大半の設計は、単一バレルマウントでマウントされますが、ハウジングは修正されて特殊要件に対応可能です。

パーツ番号

材料

レンズ CA
(mm)

スキャン
フィールド
(mm)

焦点距離
(mm)

ワーキングディスタンス*
(mm)

SL2-10.6-47-50-100

ZnSe

47

50

100

108

SL2-10.6-50-29-45

ZnSe

50

29

45

56

SL2-10.6-54-70-122

ZnSe

54

70

122

131

SL2-10.6-54-110-170

ZnSe

54

110

170

193

SL2-10.6-54-140-220

ZnSe

54

140

220

246

SL2-10.6-58-104-200

ZnSe

58

104

200

217

SL2-10.6-60-64-125

ZnSe

60

64

125

133

SL2-10.6-64-350-500

ZnSe

64

350

500

545

SL2-10.6-74-100-160

ZnSe, Ge

74

100

160

195

SL2-10.6-80-175-250

ZnSe, Ge

80

175

250

280

SL2-10.6-82-210-300

ZnSe

82

210

300

333

*スキャンレンズのワーキングディスタンスは、入射ビームパラメータとガルバノシステムに特有です。上記に記載されている各モデルは、要求があり次第詳細な仕様書シートが利用可能です。詳細につきましては、II-VIセールス担当者にお問い合わせください。


三重スキャンレンズ(バイアホールドリリング)

マーキング、型彫りなどのアプリケーションでは、フラットフィールドを提供するように設計されたスキャンレンズは、満足した結果を生み出します。

ただし、電子マイクロバイアドリリングなどの他の走査レーザーシステム・アプリケーションは、さらに精密さを必要とします。スポットの歪みとドリルの角度を最小化するには、スキャンフィールドでのビーム位置に関係なく、テレセントリック複数素子レンズによりレーザービームが入力角度を変更しないようにし、垂直のビームをワーク面に集中させます。

パーツ番号

材料

レンズ CA
(mm)

スキャン
フィールド
(mm)

焦点距離
(mm)

ワーキング
ディスタンス*
(mm)

スポット
(µm)

SL3-9.4-70-40-80-DW

ZnSe

70

40

80

98

100

SL3-9.3-105-50-100-DW-A

ZnSe

105

50

100

120

85

SL3-9.3-108-50-95-DW

Ge, ZnSe

108

50

95

95

65

SL3-9.4-108-50-100-DW

Ge, ZnSe

108

50

100

103

70

SL3-9.4-114-50-85-DW

Ge, ZnSe

114

50

85

85

50

SL3-9.4-115-60-105-DW

ZnSe

115

60

105

133

92

SL3-9.3-128-60-100-DW

ZnSe

128

60

100

111

87

*スキャンレンズのワーキングディスタンスは、入射ビームパラメータとガルバノシステムに特有です。上記に記載されている各モデルは、要求があり次第詳細な仕様書シートが利用可能です。詳細につきましては、II-VIセールス担当者にお問い合わせください。